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Carbon monoxide oxidation at the interface of a direct barrier discharge and a thin layer of Yttria-stabilized Zirconia : characterization of discharge properties and determination of reaction rates

Kohlenmonoxid Oxidation an der Grenzfläche einer Barrierenplasmaentladung und einem Dünnfilm aus Yttrium stabilisiertem Zirkoniumdioxid : Charakterisierung der Entladungseigenschaften und Bestimmung von Reaktionsraten

Steinmüller, Sven Ole


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Bitte beziehen Sie sich beim Zitieren dieses Dokumentes immer auf folgende
URN: urn:nbn:de:hebis:26-opus-109799
URL: http://geb.uni-giessen.de/geb/volltexte/2014/10979/

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Freie Schlagwörter (Deutsch): dielektrisch behinderte Plasmaentladung , Kohlenmonoxid-Oxidation , YSZ
Freie Schlagwörter (Englisch): dielectric barrier discharge , carbon monoxide oxidation , YSZ
PACS - Klassifikation: 52.80.Tn , 82.33.Xj
Universität Justus-Liebig-Universität Gießen
Institut: Physikalisch-Chemisches Institut
Fachgebiet: Chemie
DDC-Sachgruppe: Chemie
Dokumentart: Dissertation
Sprache: Englisch
Tag der mündlichen Prüfung: 27.06.2014
Erstellungsjahr: 2014
Publikationsdatum: 17.07.2014
Kurzfassung auf Englisch: This thesis investigates the carbon monoxide oxidation at the interface between a Direct Barrier Discharge (DBD) and a thin layer of Yttria-stabilized Zirconia (YSZ), which is an oxygen ion conductor. The thin film is deposited on a dielectric consisting of fused silica. The aim of this work was to investigate the reaction rates of the carbon monoxide oxidation according to the new concept of heterogeneous plasma catalysis with an oxygen ion conducting catalyst.
In this work the uncoated fused silica dielectrics were used as reference system and compared with coated dielectrics with a thin YSZ film. The temperature dependent behavior of this system and the discharge itself was monitored as there should be differences according to the thermally activated electrode kinetics and oxygen transport processes in the bulk. A second aspect of the investigations was the frequency dependent behavior of the discharge and the influence of the discharge frequency on the catalytic rate enhancement.
The different discharge setups were investigated according to the distribution of the ionic and excited species with Optical Emission Spectroscopy (OES). Theses results were compared with data obtained by Quadrupol Mass Spectroscopy (QMS). Additionally plasma ignition voltages according to the different discharge compositions at room and elevated temperatures were measured.
The QMS signal intensities were used to compare carbon dioxide reaction rates of the reference and the YSZ coated discharge setups. The obtained data was used to discuss possible kinetic models.
The OES investigations showed that the discharge is strongly influenced by the carbon monoxide gas. The dominant lines recorded are related to CO+ ions, only at very low CO partial pressures lines of Ar+ occur. Only rarely and with decreasing intensity at higher oxygen partial pressures oxygen emission lines can be found. This might be a clue to increased concentrations of negatively charged oxygen ions.
With all performed observations it can be concluded that the thin film deposition of a YSZ layer on a fused silica dielectric enhances the reaction rate of the carbon monoxide oxidation due to a discharge YSZ surface interaction or to a YSZ surface restructuring, which takes especially place at room temperature conditions. Possible kinetic models were proposed.
Kurzfassung auf Deutsch: Die vorliegende Arbeit untersucht die Kohlenmonoxid Oxidation an der Grenzfläche zwischen einer Barrierenentladung (DBD) und einem Dünnfilm aus Yttrium stabilisiertem Zirkoniumdioxid (YSZ), das ein Sauerstoffionenleiter ist. Der Dünnfilm wurde auf eine Quarzglasplatte als abgeschieden. Das Ziel dieser Arbeit war die Untersuchung der Reaktionsraten der Kohlenmonoxid Oxidation im Bezug auf das neue Konzept der heterogene Plasmakatalyse mit einem Sauerstoffionen leitenden Katalysator.
In dieser Arbeit wurden die unbeschichteten Dielektrika als Referenzsystem verwendet und mit Dielektrika, die mit einem Dünnfilm aus YSZ beschichtet wurden, verglichen. Das Temperatur abhängige Verhalten dieses Systems und der Entladung selbst wurden überprüft, da aufgrund der thermisch aktivierten Elektrodenkinetik und Sauerstoff Transportprozesse Unterschiede vorhanden sein sollten. Ein zweiter Aspekt der Untersuchungen war das Frequenz abhängige Verhalten der Entladung und der Einfluss der Entladungsfrequenz auf die katalytische Ratenerhöhung.
Die unterschiedlichen Entladungsaufbauten wurden hinsichtlich der Verteilung der Ionen und angeregten Spezies mit Optischer Emissions Spektroskopie (OES) untersucht. Die Ergebnisse daraus wurden mit den erhaltenen Daten aus Quadrupol Massenspektrometrie (QMS) Messungen verglichen. Zusätzlich wurden die Zündspannungen der verschiedenen Zusammensetzung der Entladung bei Raumtemperatur und bei erhöhter Temperatur gemessen.
Die QMS Signalintensitäten wurden verwendet um die Kohlenstoffdioxid Reaktionsraten des Referenzsystems mit dem beschichteten System zu vergleichen. Mit den erhaltenen Daten wurden mögliche kinetische Modelle diskutiert.
Die OES Untersuchungen zeigten das die Entladung stark durch das Kohlenmonoxid Gas beeinflusst wird. Die dominanten Linien können CO+ Ionen zugeordnet werden, nur bei sehr geringen Partialdrücken des Kohlenmonoxids erscheinen zusätzlich Linien von Ar+. Nur vereinzelt und mit sich verringernder Intensität bei höheren Sauerstoffpartialdrücken können Sauerstofflinien gefunden werden. Dies könnte ein Hinweis auf erhöhte Konzentrationen negativ geladener Sauerstoffionen sein.
Aus den Beobachtungen kann gefolgert werden, dass die Abscheidung eines YSZ Dünnfilms auf einem Dielektrikum aus Quarzglas die Reaktionsrate der Kohlenmonoxid Oxidation erhöht entweder aufgrund einer Plasma YSZ Oberflächen Wechselwirkung oder aufgrund einer Restrukturierung der YSZ Oberfläche, die hauptsächlich bei Raumtemperatur stattfindet. Mögliche kinetische Modelle werden vorgeschlagen.
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