Giessener Elektronische Bibliothek

GEB - Giessener Elektronische Bibliothek

Hinweis zum Urheberrecht

Bitte beziehen Sie sich beim Zitieren dieses Dokumentes immer auf folgende
URN: urn:nbn:de:hebis:26-opus-69688
URL: http://geb.uni-giessen.de/geb/volltexte/2009/6968/


Präparation, Charakterisierung und Magnetowiderstand dünner inhomogener Silberchalkogenid-Filme

Mogwitz, Boris


pdf-Format: Dokument 1.pdf (11.553 KB)

Bookmark bei Connotea Bookmark bei del.icio.us
Freie Schlagwörter (Deutsch): Magnetowiderstand , Silberchalkogenide , Kupferchalkogenide , Dünne Schichten , Gasphasenabscheidung
Universität Justus-Liebig-Universität Gießen
Institut: Institut für physikalische Chemie
Fachgebiet: Chemie
DDC-Sachgruppe: Chemie
Dokumentart: Dissertation
Sprache: Deutsch
Tag der mündlichen Prüfung: 27.03.2009
Erstellungsjahr: 2008
Publikationsdatum: 28.04.2009
Kurzfassung auf Deutsch: Das Ziel dieser Arbeit war es, Siberselenidschichten mit definierten
Silberausscheidungen herzustellen und hinsichtlich ihres
Magnetowiderstandsverhaltens zu charakterisieren.
Die bisher in der Literatur beschriebenen Methoden zum Herstellen von
Silberselenidschichten waren darauf ausgelegt, möglichst homogene oder
sogar einkristalline Filme zu produzieren. Im Hinblick auf die
Charakterisierung der genauen Zusammensetzung und der Kontrolle der
Silberausscheidungen existieren daher nur wenige Informationen.


So ist die High-Temperature-Successive-Deposition-Methode sehr gut
geeignet, um möglichst stöchiometrisches (einphasiges) und gut
kristallisiertes Material herzustellen. Das zweite Verfahren, die direkte
thermische Verdampfung, bietet nur sehr begrenzte Möglichkeiten für eine
gezielte Strukturierung. Wie die Untersuchungen in dieser Arbeit gezeigt
haben, ist diese Methode geeignet, Schichten herzustellen, wenn auch nicht
gezielt, deren Zusammensetzungen in einem weiten Konzentrationsgebiet liegen.
Das dritte zur Herstellung von Silberselenidschichten eingesetzte Verfahren
ist die gepulste Laser Deposition (PLD). Hiermit war es erstmals
möglich, Schichtdicken im Bereich weniger Nanometer bis hin zu mehreren
Mikrometern herzustellen, deren Zusammensetzung für eine einzelne Probe
über einen großen Bereich einstellbar und über die gesamte
Schichtdicke annähernd konstant ist. Aufgrund der extremen
Nichtgleichgewichtsbedingungen während dieser Aufdampfmethode ist es bei
den zweiphasigen Siberselenid-/Silberschichten hier auch möglich, die Größe der
Silberaggregate gut zu kontrollieren.