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Bitte beziehen Sie sich beim Zitieren dieses Dokumentes immer auf folgende

Plasma electrochemical growth of ion-conducting AgBr and AgCl

Vennekamp, M. ; Janek, Jürgen

Originalveröffentlichung: (2001) Zuerst erschienen in: <a href=>Solid State Ionics</a>. 141/142 (2001) 71-80
pdf-Format: Dokument 1.pdf (622 KB)

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Freie Schlagwörter (Englisch): Plasma , Solid electrolyte , Interfaces , Morphology , Metal oxidation
Universität Justus-Liebig-Universität Gießen
Institut: Physikalisch-Chemisches Institut
Fachgebiet: Chemie
DDC-Sachgruppe: Chemie
Dokumentart: Aufsatz
Sprache: Englisch
Erstellungsjahr: 2001
Publikationsdatum: 14.09.2005
Kurzfassung auf Englisch: The electrochemically controlled anodic growth of binary cation-conducting layers in reactive low temperature plasmas is studied (model systems: AgCl and AgBr). A formal stability criterion comparing the electric field within the film and the plasma is derived. It predicts either morphologically stable or unstable growth depending on the reaction temperature. The experiments prove this stability criterion qualitatively. The experimental setup and results of our plasma electrochemical growth experiments are presented. The idea to utilize low temperature plasmas as ‘fluid mixed conductors’ is discussed.